20
Российская литографическая установка, разработанная Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ), будет продаваться дешевле зарубежных аналогов на 40-60%. Ее цена составит $6 млн, а скорость обработки пластин до — от 100 до 140 в час (в зависимости от сложности топологии). Об этом рассказал ведущий разработчик литографического оборудования ЗНТЦ Виктор Абросимов на предконференции форума «Микроэлектроника».
Например, такая же установка нидерландской ASML, которая занимает 45% рынка, стоит $15 млн. И обрабатывает 180 пластин в час. Оборудование Nikon (25% рынка) стоит $12 млн и способно обрабатывать 150 пластин в час.
Оборудование компании Canon, у которой 20% рынка, стоит $10 млн. И обрабатывает 140 пластин в час. Такая же установка от SMEE обойдется в $8 млн и способна обработать 120 пластин в час.
«Российская разработка может успешно конкурировать с западными аналогиями, в том числе за счет снижения цены», — рассказал CNews представитель ЗНТЦ.
По его словам, завершение работ по разработке планируется в 2026 г. А поставки начнутся с 2028 г. До 2030 г. планируется поставка нескольких установок микроэлектронным производствам. .
При этом разработку литографа с разрешением 350 нм ЗНТЦ завершил в конце 2024 г.
Характеристика установкиУстановка литографии ЗНТЦ будет работать в диапазоне 130 нм с пластинами 150 и 200 мм и длинной волны 248 нм. Поддерживает подложки Si,SOI, SiN/SiO2. ЗНТЦ планирует к 2027 г. перейти на технологию 90 нм, а к 2030 г. — освоить 65 нм.
Установка оптимизирована для фотонных интегральных схем. По словам Абросимова, использовать такую установку для этих целей экономически эффективно, т.к. набор масок для 130 нм стоит $750 тыс. А цена для 90нм составляет $1 млн. Для активных устройств экономия составит около $3-5 млн на проект.
Также фотонные лазеры на 130 нм показывают выход годных 75-85%, что выше, чем для 65-90 нм (60-70%). Это связано с большей толерантностью к дефектам и вариациям процесса. Также были перечислены такие преимущества как термическая совместимость, точность выравнивания и контроль критических размеров.
К 2034 г. рынок фотонных интегральных схем в России составил $4,9 млрд. Из него $2,9 млрд займет рынок, который закроет процесс на 130 нм и более.
Потребность рынка«Потребность в установках для нашего рынка составит около 15-25 единиц», отметили в ЗНТЦ.
«Установка такого типа сегодня наиболее критична для технологического процесса, — отметил представитель группы компаний «Элемент». — Параметры литографа соответствуют тем, которые востребованы в для производства микроэлектроники. Если тестирование пройдет успешно, то эта установка сможет безболезненно заменить западные аналоги, в том числе на случай выхода из строя действующего оборудования. С учетом планов по развитию отрасли в России, эти литографы будут пользоваться высоким спросом».
yaplakal.com